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9/21JST主催「新技術説明会」
https://shingi.jst.go.jp/kobetsu/aist/2017_aist2.html


14:3014:55   材料

 3 光を使ったナノ炭素材料の分散制御・製膜技術 
産業技術総合研究所 機能化学研究部門 スマート材料グループ 研究員  神徳 啓邦

【新技術の概要】
我々は光に応答してナノ炭素材料の分散状態を制御可能な分散剤(光応答性分散剤)を開発してきた。この分散剤を使うことで、単層カーボンナノチューブ(単層CNT)などのナノ炭素材料の分散液に紫外光を照射するだけで、様々な種類の基板上にナノ炭素のみを簡便に薄膜化できる技術を開発した。

【従来技術・競合技術との比較】
従来のウェットプロセスによる製膜技術では、使用した分散剤が得られた膜中に不純物として残留するといった問題があった。この製膜技術では光照射によって分散剤の脱離と製膜を同時におこなうため、膜中に残留する不純物が極めて少ない。また、パターン光によるパターン膜の形成や、非平面基板への製膜も可能である。

 【新技術の特徴】
・単層CNTなどのナノ炭素材料の分散液に光照射するだけで薄膜が作製可能
・分散剤が自発的に脱離する為、得られる薄膜中に不純物がほとんどない
・ガラス、樹脂、ゴムなどのさまざまな基材上に、ナノ炭素からなる薄膜のパターニングが可能

【想定される用途】
・ナノ炭素薄膜を使った電子デバイス(電極、キャパシタなど)
・従来技術では製膜が難しい基材(素材、形状)への製膜技術
・ナノ炭素材料の分散と光応答性材料の創成

 【関連情報】
・サンプル展示あり